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    ?通量粉末原?層沉積(PALD)技術(shù)在工業(yè)催化劑中的應?

    發(fā)布時(shí)間: 2023-12-19  點(diǎn)擊次數: 2044次


    據統計,95% 的商業(yè)化學(xué)品在其制造過(guò)程的某個(gè)階段需要使??種或多種催化劑。多相催化劑對于?油煉制、塑料制造、?品和?物燃料?產(chǎn)以及許多化學(xué)制造?藝?關(guān)重要。

    盡管許多工業(yè)催化過(guò)程已經(jīng)取得了顯著(zhù)的進(jìn)展,但這些催化材料的活性中心結構均質(zhì)性較差,可能會(huì )導致不同的反應并產(chǎn)生不需要的副產(chǎn)物。此外,活性位點(diǎn)的不均勻性也使得催化性能與特定催化結構聯(lián)系起來(lái)極其困難。因此,催化劑成分和結構的調控對提升催化劑性能有積極意義。

    原子層沉積技術(shù)(ALD )提供了?個(gè)創(chuàng )造表?活性催化劑位點(diǎn)的?式,能夠創(chuàng )造出傳統合成?法?法實(shí)現的?性能催化劑。該技術(shù)已被證明具有成本效益,并可以顯著(zhù)提升催化劑的性能。

    關(guān)于 原子層沉積ALD 以及 粉末ALD 技術(shù) (一分鐘帶你了解原子層沉積ALD 以及 PALD 技術(shù))

    PALD 粉末原子層沉積技術(shù)提升催化劑性能

    ALD 涂層的作?是多??的,???可以提?催化劑的選擇性和使?壽命,從?提?催化劑的性能。另???可有效減少?屬催化劑的析出或燒結,從?避免反應的?表?積和性能的下降。

    ALD 對催化劑的增益效果:

     

    • 減少?屬納?顆粒析出

    • 更?的催化活性

    • 降低熱分解

    • 減少活性組分燒結

    • 鈍化包覆,催化劑壽命 100% 增加

    • 更強的反應選擇性

     

    當然,ALD 在先進(jìn)催化劑的制造中有很多應用,但在工業(yè)催化劑的制造中有三種基礎的作用:

     

    • 制備高比表面積載體負載活性催化劑

    • ALD 襯底涂層可以提高催化劑的選擇性和壽命

    • ALD 涂層限制熱降解,提?選擇性

     

    1、 ALD 表?活性位點(diǎn)構筑 

    PALD 已被?于在超??表?積基底載體上沉積 Pd、Pt、Ni、Rh、Fe、Ir 和 Ru 等催化劑材料。催化劑材料的?表?能允許其在基底上形成?的“島嶼”顆粒,實(shí)現了活性材料?分散,同時(shí)保持超低負載以降低材料成本。與濕法化學(xué)合成技術(shù)不同,PALD 可覆蓋催化劑載體上超?縱橫?的孔隙,實(shí)現均勻沉積。此外,PALD 可以制造“核殼”結構催化劑。 

    原子層沉積ALD 技術(shù)使 Pt 顆粒在基底上分散開(kāi)來(lái)

    使用 Forge Nano 包覆后的催化劑(左),未包覆的催化劑(右)

    2、ALD 構筑襯底支撐涂層  

    使? ALD 在活性催化劑內側構筑界?層也有助于更?的使?壽命和熱穩定性。在不影響孔隙??和形態(tài)的情況下在基底表?沉積薄膜,可以改變表?酸/堿特性,并防?活性催化劑溶解到基底材料中。?個(gè)案例便是,與未包覆的?氧化硅或氧化鋁的催化劑相?,ALD 內部涂層?撐的沉積提?了丙烷氧化脫氫的催化活性、壽命和選擇性。

    3、ALD 防護涂層 

    ALD 可以有效地將均勻的薄膜沉積在催化劑上,同時(shí)還可以提?催化性能。在?溫反應條件下,沉積AlO、TiO、NbO、NiO、ZrO 或 CoO 等薄膜可以保護催化劑的完整性,同時(shí)抑制?屬粒?的降解、燒結和析出。?如,氧化鋁 ALD 涂層保留并增強了 Pd 納?顆粒的催化活性,同時(shí)在 500℃ 條件下依然能有效防?其燒結。

    通過(guò) PALD 技術(shù),可以實(shí)現催化劑粉末材料表?的涂層或活性位點(diǎn)制備。?論是在化?品催化或典型的制氫 / 燃料 電池中,納?級催化劑存在燒結或者浸出的問(wèn)題。使? ALD 技術(shù)可以在典型的如 Pd / AlO 催化劑表?構筑涂層,可避免催化劑的燒結與浸出,從?使實(shí)現穩定的芳烴氫化反應。

     

     


     

     

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